EQP等離子體質量和能量分析質譜儀

描述：等離子體質量能量分析質譜儀把扇區場能量分析儀和高性能的四極質量過濾器結合在一起作為等離子表征的儀器。等離子體質量能量分析質譜儀可以獲得中性粒子、自由基、離子（正、負）的質譜和能量分布。

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詳細介紹

Hiden EQP是一臺結合質量和能量分析的儀器（Mass and Energy Analyser for Plasma Diagnostics），用于分析等離子過程中陰、陽離子、中性粒子以及自由基。

· 通過視口、接地電極和驅動電極進行分析

       · 軟件控制的離子汲取系統，以使等離子體擾動最小
       · 所有能量范圍內，離子行程的最小擾動，及恒定離子傳輸
       · 可調諧的離子源，用于電子附著選件的表觀電勢質譜分析
       · Penning規和互鎖裝置可提供過壓保護

· 高靈敏度 / 穩定的脈沖離子計數檢測器，有7個數量級的動態范圍
· 帶差式泵的三級過濾四極桿，質量數范圍至2500amu

· 45°靜電扇區分析器，掃描能量增量 0.05 eV / 0.25eV FWHM

· 1000eV 選配,，漂浮電壓可選至10keV；Faraday 檢測器用于高密度等離子體
· Mu-Metal，Radio-metal 屏蔽可選，高壓操作可選
· 信號選通分辨率0.1μs，用于研究脈沖等離子體或能量、質量分布隨時間的變化
· 通過RS232、RS485或Ethernet LAN，控制軟件MASsoft

EQP Mass and Energy Plasma Analyser (3.3 MB)

EQP Poster A3 size (254 KB)

EQP Poster A1 size (2.53 MB)

Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)

AP0280 Advantages of HIPIMS of Silver for Improved E. coli Inactivation (248 KB)

AP0319 High power impulse magnetron sputtering (HIPIMS) and traditional pulsed sputtering (DCMSP) Ag-surfaces leading to E. coli inactivation (233KB)

AP0322 Composition and Species Evolution in a Laser-induced LuMnO3 Plasma (381 KB)

AP0371 In-situ Monitoring of the Growth of Silver Thin Film – the Influence of Sputtering Gas (283 KB)

AP-EQP-0001 - Negative-ion Surface Production in Hydrogen Plasmas (286 KB)

AP-EQP-0002 - Highly selective etching of SiO2 over Si3N4 and Si in capacitively coupled plasma employing C5HF7 gas (658 KB)

Mass and Energy Spectra of Plasmas 50 ns Time Resolved Measurements

Atmospheric Plasma Analysis by Molecular Beam MS (1.38 MB)